詳細摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時間：2024-02-19 在線留言深圳市科時達電子科技有限公司
深圳市科時達電子科技有限公司
詳細摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會導致...
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詳細摘要： 特點：? 用于消除電子束曝光、SEM成像、FIB等工藝中的荷電效應? 通過旋涂的方式涂膠，操作簡單? 涂膠厚度：40nm @ 4000rpm? 電子束曝光后可溶...
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詳細摘要： 特點：? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等? 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-bea...
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詳細摘要： 刻膠（resist）概 述光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resis...
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時間：2024-02-19 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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